会期および会場
- 会期：2014年7月9日(水) ～ 11日(金)
- 会場：ラフォーレ修善寺（静岡県伊豆市）
プログラム
EMS33の全プログラムはこちら（PDFリンク)
プレナリー講演
- 大野 泰夫（eデバイス）
「シリコン、GaAs、GaNのためのデバイス物理基礎」
一般セッション
招待講演
- 浅田 雅洋（東工大），鈴木 左文（東工大）
「共鳴トンネルダイオードによる室温テラヘルツ発振器」 - 佐野 泰久（阪大）
「次世代半導体基板のダメージフリー加工法」 - 相馬 清吾（東北大），高橋 隆（東北大）
「高分解能ARPESで探るトポロジカル絶縁体の表面ディラック電子状態」 - 田中 悟（九大），梶原 隆司（九大），中森 弓弦（九大），ビシコフスキー アントン（九大），飯森 拓嗣（東大），中辻 寛（東工大），小森 文夫（東大）
「MBE法による傾斜SiC表面上へのグラフェンナノリボンの成長」 - 宮坂 力（桐蔭横浜大）
「有機無機ペロブスカイトを用いるハイブリッド太陽電池」 - 森 勇介（阪大）
「Naフラックス法によるGaNウエハ作製技術とその実用化戦略」
スペシャルセッション
「シリコンフォトニクス－シリコンを利用する光デバイスの可能性－」
シリコンを利用した光デバイス技術 –シリコンフォトニクス– が注目されています．シリコン集積回路の製造で養われた微細加工技術を利用し，微小な光導波路や光変調器などの要素デバイスを生産性良く作製できます．III-V族レーザーやゲルマニウム受光器といった受発光デバイスとの集積化も進められており，低電力・低価格な光電子集積チップとしてスーパーコンピュータのラック間光通信などへ導入が始まっています．今回は，国内のシリコンフォトニクス研究の第一人 者の方々をお呼びし，シリコンフォトニクスの歴史，現状と将来展望について紹介頂くスペシャルセッションを企画しました．今回は新しい試みとして，シリコンフォトニクスを基礎から学べるレクチャーと最新の成果を集めた招待講演で構成しました．ご期待下さい．
チュートリアルレクチャー
- 山田 浩治（NTT）
「シリコンフォトニクス：歴史と将来展望」
招待講演
- 浅野 卓（京大），高橋 和（大阪府立大），乾 善貴（京大），野田 進（京大）
「フォトニック結晶ナノ共振器を用いたシリコンラマンレーザ」 - 中村 隆宏（PECST，PETRA），賣野 豊（PECST，PETRA），荒川 泰彦（PECST，東大）
「LSIチップ間接続に向けた高密度光インターコネクション技術」 - 西山 伸彦（東工大），荒井 滋久（東工大）
「III-V族/Siハイブリッド集積技術と光源応用」
ランプセッション
「科学者としてのマインドとビジョン」
19世紀には，職業として認識されていなかった「科学者」（Man of science） が，20世紀にScientistとして職業化したのは，企業が線形モデルに基いて中央研究所をつくり，それがイノベーション・モデルとして成功したからでした．ところが，中央研究所の時代が20世紀の終わりに終焉を迎え，科学者の地位が不安定になってから，とりわけ日本において奇妙な大異変が起こりつつあります．21世紀に入ったとたん，科学論文の数が，世界の中で唯一日本のみ停滞し，物理学と生命科学に至っては減少に転じたのです．いったいこの異変の原因は何なので しょうか．イノベーションを成し遂げなければ生き残れない時代の中で，科学者はどのようなマインドとビジョンで，「創発」（abduction）をし続けられるのでしょうか．さらには科学が人間の生活と精神の奥深くまで入り込んだ現代社会のなかで，科学者はどのように社会と関わって行くべきなのでしょうか．さまざまな立場の科学者が議論を戦わせます．
オーガナイザー
- 山口 栄一（京大）
パネラー
- 飯嶋 秀樹（同志社大）
- 伊藤 智徳（三重大）
- 堂免 恵（東工大）
- 名西 やすし（立命館大）
【順不同敬称略】